真空镀膜行业

湖南普照信息材料有限公司

湖南普照信息材料有限公司由湖南电子信息产业集团有限公司独资控股,是中国国内目前唯一一家从事高精度匀胶铬版研发、生产与销售的专业厂家。匀胶铬版是当前和未来微细加工光掩膜制作的主流感光材料,产品广泛应用于集成电路、半导体元器件、平板显示器件、印制电路板等多种产业的光掩膜制作。 

本系统为新上匀胶铬版装置的配套工程。产水指标中对颗粒要求苛刻(颗粒度>0.1μm(pcs./mL)≤3 ),为此,在终端供水管系中设置日东电工的超滤组件,以去除水中的颗粒。(日东电工的超滤组件为受控物资,可用于化学武器的生产)

产水要求

工艺流程简图:

设 备 照 片

系统流程采用SCF+UF+RO+EDI+MBP+Terminal UF工艺。

反渗透元件采用美国陶氏产品。

EDI采用美国GE膜堆。

抛光树脂采用陶氏电子级树脂。

终端超滤采用日东电工K6R。

分配系统管道采用旭化成CPVC材质管阀件。


深圳莱宝高科技股份有限公司

产水要求


工艺流程简图:


设 备 照 片

系统流程采用MMF+ACF+RO+MB+

   UV+Terminal MF工艺。

反渗透元件采用美国陶氏产品。

终端滤芯采用美国pall滤芯

分配系统管道采用旭化成CPVC材质管阀件。


杭州科汀光学科技有限公司

产水要求

工艺流程简图:



设 备 照 片




杭州印光科技有限公司
产水要求

工艺流程简图:

设 备 照 片



浙江金徕镀膜有限公司

产水要求

工艺流程简图:


设 备 照 片



常熟晶玻光学股份有限公司
产水要求

工艺流程

设 备 照 片


系统流程采用MMF+ACF+二RO+EDI+

   TOC+Terminal MF工艺。

反渗透元件采用美国陶氏产品。

EDI膜堆采用德国西门子品牌。

终端滤芯采用美国pall滤芯


新纶科技(常州)有限公司

产水要求


设 备 照 片

系统流程采用MMF+ACF+二RO+EDI工艺。

反渗透元件采用美国陶氏产品。

EDI膜堆采用德国西门子品牌。

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